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项目名称 | 沉积高温氧化物的低压化学沉积设备 | ||
项目品类 | 信息类型 | ||
参考价格 | 面议 万元 | 项目状态 | 【】 |
专利名称 | 沉积高温氧化物的低压化学沉积设备
国内专利 |
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申请号/专利号 (例如:CN,JP) |
CN200920211288.1 | 专利权人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
申请日 | 授权日 | ||
公开(公告)号 (例如:CN,JP) |
CN201620191U | 法律状态 | 已授权 |
行业分类 | 一级 二级 三级 | ||
战略性新兴产业分类 | 一级 二级 三级 | ||
意向价格 | 面议 万元 | 权属人所属地域 | 省 市 区 |
IPC分类 | 一级 二级 三级 | ||
专利类别 | 实用新型 | ||
是否有PCT 选项: | |||
合作方式 | 其他 技术转让,技术许可 |
专利摘要 |
本实用新型公开了一种沉积高温氧化物的低压化学沉积设备,包括:具有外管和内管的炉管;炉管基座;可载有晶圆的晶舟;自外管封闭端覆盖于外管的外侧、且与炉管基座之间保持预定间隔、并可对内管内部加热的加热器;可穿过炉管基座向内管内部通入N2O的第一气体注入管;可穿过炉管基座向内管内部通入二氯硅烷DCS的第二气体注入管;第一气体注入管穿过炉管基座深入内管内部、并在靠近外管封闭端的预定位置反向折弯至加热器与炉管基座之间的预定间隔处,以使N2O经加热器预热后再通入至内管内部。本实用新型在成本低的基础上提高在晶圆上沉积的高温氧化物的厚度均匀性。 |
信息有效期 | 至 2018-03-31 |
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