【合作方式】

合作开发：与其他单位合作进行技术开发、市场开拓等，并共享新产品有关权益。根据所选转化方式预计需投入的资金3000万元，预期回收周期4年、预期回报率25%。

通过建立和优化光学元件机械加工、清洗、镀膜、检测技术，形成完善的高损伤阈值激光薄膜元件制备技术方案及生产流程线，从而完成高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的激光薄膜元件制造产业化。在光学加工技术方面，通过从坯料测试、粗磨、精磨、粗抛、精抛到表面处理各环节工艺优化，完成高面形精度、高表面质量和低亚表面缺陷的基片加工。在镀膜方面，以物理气相沉积技术为基础，通过优化基底清洗技术、膜系设计、镀膜沉积技术工艺、后处理工艺等完成高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的激光薄膜元件的制备。

【技术指标】

元件口径从φ5~φ1000mm；反射元件的反射率高于99.8%，减反类元件的剩余反射低于0.2%，偏振类元件的消光比大于100:1；抗激光损伤阈值方面：反射类元件大于30J/cm2，减反类元件大于20J/cm2，偏振类元件大于15J/cm2。

【技术特点】

该技术是对高损伤阈值激光薄膜元件制备的全链路进行工艺控制，突破了缺陷探测与控制技术、全频域波前控制技术和膜层厚度与应力控制技术，制备的薄膜元件可同时满足高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的指标要求。

【先进程度】国际先进

【技术状态】小批量生产、工程应用阶段

【适用范围】可应用于光通信、激光精密加工、半导体制备、医疗、科研等领域。

【获奖情况】军队科技进度二等奖

【专利状态】已授权发明专利9个

【预期效益】

预期销售额可达到3000万元/年，利润预计可达800万元/年以上。本技术的民用化，可满足国内激光加工、激光通信等行业对高损伤阈值激光元件的需求，以及未来大型高功率激光装置建设项目对高损伤阈值激光元件的需求。同时，有助于发展我国自主研发能力，提高国内大能量高功率激光装置和加工设备的激光元件的国产化率，为激光加工装置在国家转型升级奠定基础；也可以打破国家光刻机项目所用激光元件的国外禁运限制，加工高质量国产化激光元件，加快我国芯片行业的发展。除此之外，本项目的实施，可提升高损伤阈值激光元件的光学加工、镀膜和光学检测水平，并带动上海本地相关产业升级，提高本地激光研究和激光加工的水平，为上海汽车企业的激光加工设备的国产化提供保障。