离子束抛光技术是基于离子束溅射效应，利用具有低能的离子束轰击光学元件表面,通过离子和工件表面的原子碰撞,传递动量和能量,致使元件表面的原子脱离，达到抛光的效果。由于离子束去除元件表面材料速率较低，因此，为了提高抛光效率，首先要将工件预抛光到一定精度（如先采用单点金刚石切削、数控研磨抛光技术获得高精度的表面）,然后再进行离子束抛光。其特点是具有无损伤、原子级去除等特点。有效的弥补了传统加工工艺的不足，并与传统加工工艺相互配合，可以获得具有较小的低频误差的光学元件表面。离子束抛光技术已成为国际上重点发展的对光学元件表面进行精确面形修正，获得较高面型精度的一项技术。

离子束沉积修正抛光系统的成套设备由五个子系统构成：样品操纵系统、离子源及其运动控制系统、工艺控制系统、真空系统和保障辅助系统。